'반도체 핵심 기술 유출' 중국인 2심서 징역 5년으로 형량↑

1심 징역 1년6개월 벌금 2000만원→2심 징역 5년 벌금 3000만원

SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국으로 유출한 혐의로 재판을 받고 있는 중국인 여성이 항소심에서 징역 5년을 선고받았다.

7일 수원고법 형사2-1부(고법판사 김민기 김종우 박광서)는 중국 국적 A씨의 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의 항소심 선고 공판을 열고 원심을 파기한 뒤 징역 5년에 벌금 3000만원을 선고했다.

▲수원법원종합청사 전경. ⓒ프레시안(전승표)

이는 원심에서 징역 1년6개월보다 늘어난 징역 5년을 선고받은 것이다.

재판부는 "피고인은 경쟁 회사로 이직하면서 피해 회사가 다년간 연구하고 개발한 반도체 연구 성과물과 영업비밀이 들어있는 문서를 유출했다"며 "피고인은 유출 범행 시점에 화웨이로 이직해 메모리 관련 업무를 맡을 것을 예상했고, 이직 시 과도하게 높은 연봉을 받은 것도 기술 대가로 보여질 여지가 있다"고 판시했다.

이어 "국외 유출된 국가핵심기술이 회수되지 않아 피해 회사와 대한민국의 피해를 가늠하기 어렵다"며 "이러한 범죄는 국내 기업 생존기반을 위태롭게 하는 등 엄하게 처벌할 필요가 있다"고 말했다.

A씨는 2013년 SK하이닉스에 입사한 뒤 2022년 높은 연봉을 받고 중국 화웨이로 이직한 뒤 하이닉스 퇴사 직전 반도체 공정 문제 해결책과 관련한 자료를 A4 용지 4천여장 분량 출력하는 등의 수법으로 영업비밀을 유출한 혐의로 기소됐다.

그는 SK하이닉스에서 반도체 설계상의 불량을 분석하는 부서에서 줄곧 일하다가 2020년부터 2022년까지 중국 현지 법인의 기업 간 거래 고객 상담 팀장급 직원으로 근무했다.